蓝宝石CMP耗材整体解决方案

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工艺	推荐产品				应用特点
研磨	研磨液	金刚石研磨液	研磨垫	树脂研磨垫	A向、C向蓝宝石研磨，高去除率，产品研磨速率稳定，切削速度快，加工表面一致性好。
粗抛	粗抛液	SAPOL-212、213	粗抛垫	PUP-40/PUN-40D/ PUN-80/PUN-95	耐磨性能优异，耐强碱；去除速率高，加工表面平坦度好
粗抛	粗抛液	SAPOL-212、213	粗抛垫	NWD-80/NWD-90	去除速率高，加工表面平坦度好。
精抛	精抛液	SAPOL-114 SAPOL-115	精抛垫	DPP-75	去除速率高，颗粒粒径分布适中，产品循环寿命长，循环使用过程中良率稳定，表面粗糙度低