碳化硅衬底不同抛光机耗材解决方案

概要:

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抛光机类型		抛光液	抛光垫	应用特点
单片机		COPOL-431	PUN-50D	表面粗糙度低，高去除速率，满足一步抛光要求
单片机		COPOL-432	PUN-50D	高去除速率，去除速率稳定，表面粗糙度低，满足一步抛光要求
多片机	粗抛	COPOL-233（碱性）	NWS-85	表面无划伤，良品率高
		COPOL-234（酸性）		去除速率高，表面无划伤，良品率高
		COPOL-235（酸性）		抛光速率高且稳定，循环使用寿命长
		COPOL-236（碱性）		抛光速率高且稳定，循环使用寿命长
		COPOL-133（酸性）		出色的Si面抛光速率，是一般氧化硅抛光液的3倍以上。抛光后表面无划伤，良品率高
		COPOL-134（碱性）		出色的Si面抛光速率，是一般氧化硅抛光液的3倍以上。抛光后表面无划伤，良品率高
	精抛	COPOL-136	DPN-50W	去除速率快，抛光后表面缺陷较少，Si面粗糙度≤0.06nm