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发布时间：2024-01-12 16:03:24

 

解决方案

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SOLUTION

 

 

 

砷化镓CMP耗材整体解决方案

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工艺

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应用场景

研磨

平板状氧化铝、氧化铝研磨液

粗磨配合铸铁盘使用

抛光

抛光液

GAPOL-101/GAPOL-102

抛光垫

NWS-70

砷化镓粗抛

GAPOL-101/GAPOL-102

NPN-40

砷化镓精抛

吸附垫

各型号吸附垫

单面抛光时，无蜡吸附

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