通常被使用于要求高平坦性的抛光工序。
应用领域：
碳化硅衬底、硅基衬底、蓝宝石、盖板玻璃等材料的研磨抛光。
定制服务：
硬度、尺寸、沟槽等可按需求定制。公司成立于2021年12月31日，地位于浙江省衢州市春城路15号205室，经营范围包括一般项目：电子专用材料研发；新材料技术研发等。">

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发布时间：2024-01-12 16:03:24

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聚氨酯抛光垫

聚氨酯抛光垫是耐用性能较高的抛光垫，聚氨酯预聚物、硬化剂和发泡剂按混合后，注入定型容器中做成块状，然后通过切片机加工成最终片状抛光垫。
通常被使用于要求高平坦性的抛光工序。
应用领域：
碳化硅衬底、硅基衬底、蓝宝石、盖板玻璃等材料的研磨抛光。
定制服务：
硬度、尺寸、沟槽等可按需求定制。

产品描述

PUN-50D	PUN-80	PUP-40
• 内部含有大量微孔，泡孔细密，分布均匀 • 硬度高，去除速率高耐磨性能优异 • 去除速率高，加工平坦度好，Si面Ra在0.08nm以内	• 由聚氨酯发泡成型、内部含有大量微孔，不含无机粉末 • 硬度高，耐磨性能优异，去除速率高，加工平坦度好 • 适用于硅片、蓝宝石、玻璃的抛光工艺	• 由聚氨酯发泡成型，内部含有大量微孔 • 硬度高，耐磨性能优异，耐强碱 • 去除速率高，加工表面平坦度好
PUN-45	PUN-88	PUN-95
• 内部充满细小的微孔 • 去除速率高、使用寿命长 • 加工效率高和较好的研抛玻璃表面质量	• 由聚氨酯发泡成型，表面大泡孔较少，内里分布着均匀细密的微孔 • 较高去除速率且划伤率较低 • 适用于碳化硅研磨	• 有聚氨酯发泡成型，表面有少许小泡孔，内里分布着大量细密的微孔 • 硬度大，去除速率高，划伤较少 • 耐化学性强，使用寿命长 • 通用性好，可用于蓝宝石衬底、窗口片的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金等领域
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