通常被使用于粗磨或中磨。
应用领域:
半导体晶圆,蓝宝石,光学镜片,金属等材料CMP。
定制服务:
硬度、尺寸、沟槽等可按需求定制。公司成立于2021年12月31日,地位于浙江省衢州市春城路15号205室,经营范围包括一般项目:电子专用材料研发;新材料技术研发等。">

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发布时间:2024-01-12 16:03:24

 

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2321-(134)

无纺布抛光垫

无纺布抛光垫是一款毛毡状的抛光垫,能磨出一定程度的平坦性和平滑性,性能处于聚氨酯抛光垫和阻尼布抛光垫的中间位置。
通常被使用于粗磨或中磨。
应用领域:
半导体晶圆,蓝宝石,光学镜片,金属等材料CMP。
定制服务:
硬度、尺寸、沟槽等可按需求定制。
2321-(134)
产品描述

NWS-85

NWS-60

NWS-70

• 由无纺布浸渍聚氨酯树脂后得到的复合抛光垫
• 耐氧化性优异,不掉毛,速率保持稳定
• 适用于碳化硅的粗抛工艺

• 由无纺布浸渍聚氨酯树脂后得到的复合抛光垫
• 硬度、密度较低,在低压力下去除前道工序中的划痕
• 适用于硅片衬底的中抛工艺

• 由无纺布浸渍聚氨酯树脂后得到的复合抛光垫
• 圆环内侧可切缺口便于贴合环形机台
• 适用于硅片衬底的边抛工艺

NWD-80

NWD-90

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• 由无纺布浸渍聚氨酯树脂后得到的复合抛光垫
• 出色的平整度,在中等压力下实现高去除速率
• 适用于硅片衬底的粗抛和中抛工艺

• 由无纺布浸渍聚氨酯树脂后得到的复合抛光垫
• 出色的平整度,在高压力下全寿命周期内保持高去除速率
• 适用于硅片衬底的粗抛工艺

 

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