• 少划伤，采用氧化铝和混合磨料两种体系，可定制酸性或碱性液
• 去除速率高，抛光缺陷少，良品率高
• 存储周期长，采用AB体系稳定性好
产品分类：
• 氧化铝抛光液
• 氧化硅抛光液
• 氧化锰抛光液公司成立于2021年12月31日，地位于浙江省衢州市春城路15号205室，经营范围包括一般项目：电子专用材料研发；新材料技术研发等。">

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发布时间：2024-01-12 16:03:24

 

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01021 (12)

碳化硅衬底用抛光液系列（COPOL系列）

产品性能：
• 少划伤，采用氧化铝和混合磨料两种体系，可定制酸性或碱性液
• 去除速率高，抛光缺陷少，良品率高
• 存储周期长，采用AB体系稳定性好
产品分类：
• 氧化铝抛光液
• 氧化硅抛光液
• 氧化锰抛光液
01021 (12)
产品描述

COPOL-130

COPOL-133

COPOL-134

• 在Si面具有较好的去除率表现
• 抛光后表面缺陷较少，Si面粗糙度≤0.06nm
• 使用时将A液与B液混合，加入定量的双氧水，循环使用

• 采用纳米级氧化硅磨料，抛光后表面无划伤，良品率高
• 出色的Si面抛光速率，是一般氧化硅抛光液的3倍以上

• 采用较软的氧化硅作为磨料
• 表面质量较好
• pH值为10左右，对设备腐蚀较小

COPOL-233

COPOL-235

COPOL-236

• 具有良好的去除率表现
• 抛光后表面无划伤，良品率高
• 可循环使用，产品使用寿命长

• 采用150nm级氧化铝磨料，酸性氧化铝抛光液
• 具有较高的抛光速率
• 抛光后表面无划伤，良品率高
• 产品对抛光垫的腐蚀损耗较小

• 采用150nm级氧化铝磨料，碱性氧化铝抛光液
• 抛光后表面无划伤，良品率高
• 抛光速率高且稳定，循环使用寿命长
• 产品对抛光垫的腐蚀损耗较小

COPOL-431

COPOL-432

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• 具有较高的抛光速率
• 抛光后粗糙度较低，Si面 Ra≤0.08nm
• 抛光后表面无划伤，良品率高
• 建议使用前pH调至2

• 具有较高的抛光速率
• 抛光后粗糙度较低，Si面 Ra≤0.08nm
• 抛光后表面无划伤，良品率高
• 建议使用前pH调至2

 

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硅衬底用抛光液系列（SIPOL系列）

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